株式会社ニューフレアテクノロジーの過去求人・中途採用情報

【大手企業とも取引あり】顧客先に納入された半導体装置の保守点検、据え付け・設置業務
具体的な仕事内容
■■当社について■■
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東芝機械株式会社の半導体装置事業部が分社化し、2002年に独立したニューフレアテクノロジー。前身から引き継いだ技術力を活かし、国内有数の半導体製造装置メーカーとして業績を伸ばし続けています。

＜電子ビームマスク描画装置とは…＞
「フォトマスク」という回路原盤を製造する機械です。原盤から回路を転写することで、半導体の大量生産を可能にしました。また、電子ビームで描画することにより、高品質で耐久性のあるフォトマスクが製造できるため、多くの企業から信頼頂いています。

＜半導体業界を支える＞
ナノメートル単位の超極細な回路を描写する必要があり、高い技術が必要な電子ビームマスク描画装置。そのため参画する企業が少なく、ほとんど一社で世界の半導体業界を支えています！

■■お任せすること■■
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お客さま先に納品された半導体製造装置の保守・点検業務、または据え付け・設置業務をお任せいたします。

＜お客さまは…＞
国内外の半導体メーカー。
台湾の半導体メーカーやアメリカの大手企業など、その実績と技術力から名だたる企業に納品をしています。

＜具体的には…＞
■納入後の保守点検業務
・装置の日常点検、定期点検
・部品交換、システム調整
・トラブルシューティング
・サービスレポートの作成、報告

■据え付け・立ち上げ業務
・顧客先への装置搬入および立ち上げ
・立ち上げ計画案の作成、顧客への説明

※経験やスキルに合わせて各業務をお任せいたします。
※リーダー候補として、装置の開発戦略や事業戦略を立案するマーケティング業務をお任せすることもあります。

＜入社後は…＞
横浜本社にて半年ほど研修を行い、顧客先へ駐在いたします。将来的にはリーダー職など、キャリアの選択肢も幅広く用意しています！

チーム／組織構成
＼20～30代を中心に、幅広い世代が活躍中／
本社への報告、相談などいつでも連携がとれる体制ですので、困ったときはいつでも周りのスタッフを頼ってください。

【高専卒以上】★理系出身の方歓迎 ★グローバルに活躍したい方
【必須要件】
■高専卒以上
■機械や電気・電子系など製造業界での実務経験
※年数・職種経験不問

【歓迎要件】
■英語スキル（英語文書が理解できる方）
■UNIX、C/C++プログラミング言語スキル
■半導体製造装置メーカー、液晶製造装置メーカーでの実務経験

【求める人物像】
■お客さま、並びに社内への報告連絡相談ができる方
■コミュニケーションを大切にできる方
■国内だけではなく、グローバルに活躍したい方

※第二新卒歓迎

台湾・アメリカ・ドイツ・韓国・日本国内顧客先

※在宅勤務制度あり

フレックスタイム制
（1日の標準労働時間：7時間45分・休憩1時間／標準労働時間帯：8:45～17:30）
※コアタイム・フレキシブルタイムともになし。
※入社後半年程度は国内（横浜本社）で研修を受けていただきます。
　その後、駐在先に応じた勤務時間となります。
■平均残業時間
25時間

程度

正社員
試用期間6カ月
（期間中の条件、待遇に変動なし）

月給22万円～39万円

※ご経験と保有スキルを考慮し決定いたします。

■給与にプラスしてもらえる手当・インセンティブ
■時間外手当
■役職手当
■家族手当
■通勤交通費（全額支給）

■賞与
年2回
（7月、12月）※直近年度実績6.15カ月分

■昇給
年1回
（4月）

■入社時の想定年収
年収400万円
～700万円

■社会保険完備（雇用・労災・健康・介護・厚生年金）
■退職金制度
■企業年金
■財形制度
■借り上げ社宅あり（※社内規定あり）
└独身借り上げ社宅制度（35歳まで）／世帯向け借り上げ社宅制度（最大12年間）
■共済会制度
■選択型福祉制度「カフェポイント」
■保養所、健康診断
■教育研修制度

★自由に、裁量大きく働ける環境です★
■リモートワーク推進中
■フレックスタイム制

＜年間休日＞
128日
（2023年度）

＜休日・休暇＞
■完全週休2日制
（土、日）
■祝日休み
■年末年始休暇　
■夏季休暇
■慶弔休暇　
■有給休暇　
■特別休暇
■リフレッシュ休暇（勤続10年、20年、30年に取得可）

■電子ビームマスク描画装置
当社を代表する装置です。その性能は高く、東京タワーから富士山山頂にある1.6mmの的を射抜けるほど、高い技術力を誇ります。

■マスク検査装置
電子ビームマスク描画装置で製造された、フォトマスクの欠陥を高速で検査し、半導体の生産性を高めます。

■エピタキシャル成長装置
LED、ハイブリッド車・電気自動車用に使用される半導体を製造するうえで、欠かせない機械です。

知識がないからと不安になる必要はありません。入社時は半導体業界や製造業界に詳しくなかった社員も、研修を通じて知識を身につけ、現在活躍しています！

最新機種ではEUV露光に対応するフォトマスクのパターン描画が可能に。
現在は電子ビームマスク描画装置の次世代機となる、「マルチビームマスク描画装置」の研究、開発に注力しています。「マルチビーム」を取り入れることで、より短納期で、より高品質のフォトマスクの製造が可能となります。

次世代機への研究・開発には、世界から信頼される技術力を持つ当社でしかたどり着けません！圧倒的な技術力で他社と差をつけ、これからもそのシェアを伸ばしていくことを目標にしています。