株式会社ニューフレアテクノロジーの過去求人・中途採用情報

【★グローバル展開】当社製品に関する資材調達ならびに調達先の情報収集、コストリダクション業務
具体的な仕事内容
■■お任せすること■■
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当社製品に関する調達業務をお任せいたします。国内外の調達先についての情報収集や、コストや納期調整を意識しながら、調達業務を促進していただきます。

＜ココがPOINT！＞
★専門性高く、世界的課題に携わる！
半導体製造メーカーである当社だからこそ、専門性高く調達業務に携わることが可能。半導体の知識を持つ人材として成長できるだけではなく、自分自身の市場価値も高められます。

＜入社後は＞
ご経験やスキルに合わせて座学研修やOJT研修を行います。半導体業界での経験をお持ちの方は、即戦力として、短期間で活躍できる環境を整えています！

■■当社について■■
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東芝機械株式会社の半導体装置事業部が分社化し、2002年に独立したニューフレアテクノロジー。前身から引き継いだ技術力を活かし、国内有数の半導体製造装置メーカーとして業績を伸ばし続けています。

＜電子ビームマスク描画装置とは…＞
「フォトマスク」という回路原盤を製造する機械です。原盤から回路を転写することで、半導体の大量生産を可能にしました。また、電子ビームで描画することにより、高品質で耐久性のあるフォトマスクが製造できるため、多くの企業から信頼頂いています。

＜半導体業界を支える！＞
ナノメートル単位の超極細な回路を描写する必要があり、高い技術が必要な電子ビームマスク描画装置。そのため参画する企業が少なく、ほとんど一社で世界の半導体業界を支えています。

チーム／組織構成
中途採用のメンバーがほとんどで、一人ひとりの主体性を大切にしているため、調達方針に基づきながら裁量大きく、業務を行えます。

【高専卒以上／業界経験不問】調達、購買の実務経験をお持ちの方
■高専卒以上
■調達、購買の実務経験をお持ちの方（業界・年数不問）

【こんな方を歓迎しています】
■加工図面や電気図面の知識をお持ちの方
■原価管理、コストダウンに携わった経験をお持ちの方
■英語スキルがある、またはこれから英語力を向上させたい方
■製造業界の実務経験をお持ちの方
■協調性を持ち、コミュニケーションを大切にできる方

【転勤なし】神奈川県横浜市磯子区新杉田町8-1

＜アクセス＞
JR京浜東北根岸線「新杉田」駅より徒歩10分

※屋内全面禁煙
※在宅勤務制度あり

フレックスタイム制
（1日の標準労働時間：7時間45分・休憩1時間／標準労働時間帯：8:45～17:30）
※コアタイム・フレキシブルタイムともになし
■平均残業時間
25時間

程度

正社員
試用期間6カ月
（期間中の給与・待遇に変動なし）

＜主任クラス＞
月給：30万円～45万円
＜担当クラス＞
月給：22万円～39万円

※ご経験と保有スキルによりポジションを決定します

■給与にプラスしてもらえる手当・インセンティブ
■時間外手当
■役職手当
■家族手当
■通勤交通費（全額支給）

■賞与
年2回
（7月、12月）※直近年度実績 6.45カ月

■昇給
年1回
（4月）

■入社時の想定年収
年収400万円
～700万円（担当クラス）
年収550万円
～800万円（主任クラス）

■社会保険完備（雇用・労災・健康・介護・厚生年金）
■退職金制度
■企業年金
■財形制度
■借り上げ社宅あり（※社内規定あり）
独身借り上げ社宅制度（35歳まで）／世帯向け借り上げ社宅制度（最大12年間）
■共済会制度
■選択型福祉制度「カフェポイント」
■保養所、健康診断
■教育研修制度

★自由に、裁量大きく働ける環境です★
■リモートワーク推進中
■フレックスタイム制

＜年間休日＞
128日
（2023年度）

＜休日・休暇＞
■完全週休2日制
（土、日）
■祝日休み
■年末年始休暇　
■夏季休暇
■慶弔休暇　
■有給休暇　
■特別休暇
■リフレッシュ休暇（勤続10年、20年、30年に取得可）

■電子ビームマスク描画装置
当社を代表する装置です。その性能は高く、東京タワーから富士山山頂にある1.6mmの的を射抜けるほど、高い技術力を誇ります。

■マスク検査装置
電子ビームマスク描画装置で製造された、フォトマスクの欠陥を高速で検査し、半導体の生産性を高めます。

■エピタキシャル成長装置
LED、ハイブリッド車・電気自動車用に使用される半導体を製造するうえで、欠かせない機械です。

入社時は半導体業界や製造業界に詳しくないという方も、研修を通じて知識を身につけています！最先端の技術を身につけられるので、市場価値も高められます。

最新機種ではEUV露光に対応するフォトマスクのパターン描画が可能に。
現在は電子ビームマスク描画装置の次世代機となる、「マルチビームマスク描画装置」の研究、開発に注力しています。「マルチビーム」を取り入れることで、より短納期で、より高品質のフォトマスクの製造が可能となります。

次世代機への研究・開発には、世界から信頼される技術力を持つ当社でしかたどり着けません！圧倒的な技術力で他社と差をつけ、これからもそのシェアを伸ばしていくことを目標にしています。