- 仕事
★テクニカル・セラミックスで半導体部材関連でトップクラスメーカー ★平均残業20h/有給取得率約80%/転勤当面無し/単
- 対象
<最終学歴>大学院、大学卒以上
- 勤務地
<勤務地詳細>長崎事業所住所:長崎県東彼杵郡川棚町百津郷296 勤務地最寄駅:JR大村線線/川棚駅受動喫煙対策:屋...
- 最寄駅
川棚駅、小串郷駅
- 給与
<予定年収>627万円~784万円<賃金形態>月給制月給制、昇給年1回、賞与年2回(業績により年3回の場合あり)<...
- 事業
■当社について米国を本拠とする先進セラミックスのグローバルメーカーです。100年以上の歴史を持ち、日本を含む世界各...
製造プロセス開発・工法開発(化学)、第二新卒歓迎、外資系企業 の転職・求人検索結果
製造プロセス開発・工法開発(化学)、第二新卒歓迎、外資系企業の転職・求人検索結果です。製造プロセス開発・工法開発(合成・重合)、製造プロセス開発・工法開発(配合設計品)(塗料・接着剤など)、製造プロセス開発・工法開発(加工成型)(樹脂)など、左の求人検索条件にて絞込みができます。
該当求人数6件中1~6件を表示
- 仕事
■業務内容: ◎プログラム推進・マネジメント ・拠点担当者およびグローバル・ファシリティーズチームと連携し、プロセス・プ
- 対象
<最終学歴>大学院、大学卒以上
- 勤務地
<勤務地詳細>広島工場住所:広島県東広島市吉川工業団地7-10 勤務地最寄駅:山陽新幹線/東広島駅受動喫煙対策:屋...
- 最寄駅
八本松駅
- 給与
<予定年収>400万円~700万円<賃金形態>年俸制<賃金内訳>年額(基本給):4,000,000円~7,000,...
- 事業
■事業内容:DRAMの開発・設計、製造、販売■事業詳細:マイクロンメモリ ジャパン株式会社(旧社名:エルピーダメモ...
マイクロンメモリ ジャパン株式会社
【広島/第二新卒・未経験歓迎】生産管理/理系学部卒の方へ/世界的半導体メモリメーカー!~
- 仕事
・英語力不問!英語を使った業務に興味意欲がある方歓迎! ・業界、職種未経験歓迎!/充実した研修制度!! ■業務内容:
- 対象
<最終学歴>大学院、大学、高等専門学校卒以上
- 勤務地
<勤務地詳細>広島工場住所:広島県東広島市吉川工業団地7-10 勤務地最寄駅:山陽新幹線/東広島駅受動喫煙対策:屋...
- 最寄駅
八本松駅
- 給与
<予定年収>450万円~600万円<賃金形態>年俸制<賃金内訳>年額(基本給):4,500,000円~6,000,...
- 事業
■事業内容:DRAMの開発・設計、製造、販売■事業詳細:マイクロンメモリ ジャパン株式会社(旧社名:エルピーダメモ...
- 仕事
~オーナー側として基本設計~改善を担当/化学工学の知見・プラントや製造ラインの立ち上げ経験をお持ちの方歓迎/転勤ほぼ無し
- 対象
<最終学歴>大学院、大学、短期大学、専修・各種学校、高等専門学校、高等学校卒以上
- 勤務地
<勤務地詳細>小野田事業所住所:山口県山陽小野田市新沖1-1-1 受動喫煙対策:敷地内喫煙可能場所あり変更の範囲:...
- 最寄駅
小野田港駅、南小野田駅、雀田駅
- 給与
<予定年収>550万円~700万円<賃金形態>月給制補足事項なし<賃金内訳>月額(基本給):350,000円~50...
- 事業
■事業内容:日本におけるNCA(ニッケル系正極材)、LMO(マンガン系正極材)、NCM(三元系正極材)等の正極材料...
- 仕事
~長く当ポジションで働いて頂ける方へ!ラボスケールからのスケールアップ・量産化移行/住友金属鉱山とBASFの合弁会社/上
- 対象
<最終学歴>大学院、大学卒以上
- 勤務地
<勤務地詳細>つくば事業所住所:茨城県坂東市幸神平25-3 受動喫煙対策:屋内全面禁煙変更の範囲:会社の定める事業所
- 最寄駅
三妻駅
- 給与
<予定年収>610万円~870万円<賃金形態>月給制<賃金内訳>月額(基本給):300,000円~330,000円...
- 事業
■世界大手企業(住友金属鉱山と独BASF)の合弁会社■自動車・化学・医薬等、あらゆる工業に必要不可欠な「貴金属触媒...
- 仕事
~220年以上の歴史があるアメリカ本社クローバルカンパニー/英語力を活かして働く/スキルアップ・キャリアアップができる/
- 対象
<最終学歴>大学院、大学卒以上
- 勤務地
<勤務地詳細>笹神工場住所:新潟県阿賀野市女堂300 受動喫煙対策:屋内全面禁煙変更の範囲:会社の定める事業所
- 最寄駅
神山駅
- 給与
<予定年収>700万円~1,000万円<賃金形態>月給制<賃金内訳>月額(基本給):450,000円~700,00...
- 事業
■概要:デュポングループ。プリント回路基板用メッキ薬等化学薬品、半導体製造用フォトレジスト等化学薬品、金属表面処理...
