日本エー・エス・エム株式会社 の求人・中途採用情報

～ウェハ処理用の半導体プロセス装置の大手サプライヤであるASM International N.V.の日本法人として事業を展開／自己資本比率90％以上という圧倒的な財務基盤～ ■業務内容： 半導体製造成膜装置におけるチャンバー・ガス/真空ユニット等の要素・機構の開発、装置及び改良設計まで幅広く対応いただきます。 ■業務詳細： ・要素/機構の研究開発（コンセプト、実現可能性検証、実機評価・テスト） ・装置・機能の新規開発、既存装置の改善改良を行う際の仕様検討～詳細設計 ・既存装置の機構設計／配管設計 ・パーツ／制御機器の選定、技術的検討 ・各種指示書の作成 ■当社の強み・魅力： ◇売上高に左右されずにR&Dを行える環境：流動比率500％、自己資本比率90％以上という圧倒的な財務基盤を誇ります。それ故、短期的な売上ではなく長期的な観点でR&Dが可能です。DRAM要因で売上減少もR&D費が増加しています。 ◇日本の開発拠点は非常に多国籍な環境です。16か国の出身のエンジニアが他の海外開発拠点と協力しながら開発を行っております。 ■日本法人の立ち位置： 外資系企業ながら開発拠点が日本にあり、CVD装置は研究開発から製造・部品調達、カスタマイズまで全て日本で行っています。製品毎に主要開発拠点があり、日本はCVD装置の開発拠点という位置づけになります。また、近年話題のハフニウム使用のゲート絶縁膜分野では先駆的な存在となります。

＜最終学歴＞大学院、大学卒以上

＜勤務地詳細＞本社住所：東京都多摩市永山6-23-1 勤務地最寄駅：小田急線・京王線／永山駅受動喫煙対策：屋内全面禁煙

はるひ野駅、小田急永山駅、京王永山駅

＜予定年収＞1,000万円～1,300万円＜賃金形態＞月給制＜賃金内訳＞月額（基本給）：750,000円～1,000,000円＜月給＞750,000円～1,000,000円＜昇給有無＞有＜残業手当＞有＜給与補足＞※上記年収は、基本給900万円～1200万円＋ボーナスとなります。※業績賞与は、会社業績・個人のパフォーマンスに応じて年一回支給します。※賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。※月給(月額)は固定手当を含めた表記です。■賞与：年1回■昇給：年1回賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。月給(月額)は固定手当を含めた表記です。

■事業内容：ウェハ処理用の半導体プロセス装置の大手サプライヤであるASM International N.V.の日本法人として事業を展開する、精密機器製造企業です。プラズマCVD装置、減圧CVD装置、エピタキシャル製造装置（半導体製造の前工程で使用されるウェハ薄膜形成装置）といった半導体製造装置の製造、販売をコアビジネスとしています。

～ウェハ処理用の半導体プロセス装置の大手サプライヤであるASM International N.V.の日本法人として事業を展開／自己資本比率90％以上という圧倒的な財務基盤～ ■業務内容： 半導体の成膜時に必要不可欠な装置の保守、メンテナンス、テクニカルサポート、改善・改良提案など幅広い業務をお任せします。 ■業務詳細： ご入社後まずはOJTにて装置への理解などを深めながら、顧客先への装置の納入・立ち上げをご担当いただきます。その後、お客様のニーズに応じた装置のメンテナンス、サステニングを通して、カスタマイズや改良、修復、メンテナンスなどを幅広くお任せしています。装置に大きな不具合が生じた際には、装置の分析・解析を行い、専門領域のエンジニアと協力して解決策を講じることもあります。 ※なお、今回のポジションでは基本、顧客からの電話対応業務はありません。 ■当社の強み・魅力： ◇売上高に左右されずに開発を行える環境：流動比率500％、自己資本比率90％以上という圧倒的な財務基盤を誇ります。それ故、短期的な売上ではなく長期的な観点で開発が可能です。 ◇原子層堆積（ALD）技術：この分野での専門性が他の半導体装置メーカーとの差別化要因となっています。ALD技術は、高精度な薄膜形成を可能にし、微細化が進む最先端の半導体製造プロセスにおいては非常に重要な役割を果たしています。 ◇グローバルな研究開発拠点：オランダ、ベルギー、フィンランド、アメリカ、韓国、日本に研究開発拠点があります。

学歴不問

＜勤務地詳細1＞第二テクノロジ―センター住所：神奈川県川崎市麻生区栗木2丁目7-2 勤務地最寄駅：小田急多摩線／黒川駅受動喫煙対策：屋内全面禁煙＜勤務地詳細2＞苫小牧サービスセンター住所：北海道苫小牧市王子町3丁目2-23　 受動喫煙対策：屋内全面禁煙＜勤務地詳細3＞北上サービスセンター住所：岩手県北上市大通り1-3-27 入山北ビル2階受動喫煙対策：屋内全面禁煙

黒川駅(神奈川県)、苫小牧駅、北上駅、栗平駅、青葉駅、柳原駅(岩手県)、はるひ野駅、糸井駅、江釣子駅

＜予定年収＞540万円～804万円＜賃金形態＞月給制＜賃金内訳＞月額（基本給）：300,000円～450,000円＜月給＞300,000円～450,000円＜昇給有無＞有＜残業手当＞有＜給与補足＞※上記予定年収は基本給＋固定賞与（4か月分）＋変動賞与＋住宅手当を含む※賃金は選考を通じて上下する可能性あり■出張手当：有（日毎支給）※出張手当は食事代として支給され宿泊代は別途企業負担■固定賞与：年2回、変動賞与：年1回※会社業績などに応じて■昇給あり：年1回賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。月給(月額)は固定手当を含めた表記です。

■事業内容：ウェハ処理用の半導体プロセス装置の大手サプライヤであるASM International N.V.の日本法人として事業を展開する、精密機器製造企業です。プラズマCVD装置、減圧CVD装置、エピタキシャル製造装置（半導体製造の前工程で使用されるウェハ薄膜形成装置）といった半導体製造装置の製造、販売をコアビジネスとしています。

～半導体デバイスまたは装置業界でのご経験をお持ちの方へ／ウェハ処理用の半導体プロセス装置の大手サプライヤであるASM International N.V.の日本法人として事業を展開／自己資本比率90％以上という圧倒的な財務基盤～ ■業務内容： マイクロン向けの製品選定サポート、プレセールスコンサル業務を担当いただきます。お客様のニーズを理解し、全体的な戦略を提供し、その後、社内の営業、開発部門等と連携し、お客様へサービスを提供いただきます。 ■業務詳細： ・顧客との関係を築き、成長させます。 ・現在の顧客ニーズを評価し、理解し、特定するとともに、将来のニーズを予測し、長期的に持続可能な関係とソリューションを構築します。 ・社内外の関係者が使用する技術情報の開発、維持、および関連性を確保します。 ・顧客関係の強化を可能にする長期的かつ革新的なグローバルテクノロジーシステムを理解し、構築します。 ・電話、電子メール、プレゼンテーションなどのコミュニケーション手段を通じて、効率的かつ一貫した顧客フォローアップを促進します。 ・チーム、プロセス、サポートツールの開発を通じて、顧客体験の継続的な改善を推進します。 ・強力な部門横断的およびマトリックス型の関係を構築し、製品マーケティング、製品開発、サービスエンジニアリングなどと連携して、肯定的な顧客体験を実現します。 ・複数の顧客サイトでプロジェクトを推進し、ビジネスを守り、ASMの機能に対する信頼を築きます。管理レビューと調整を行います。 ・必要に応じて商業上の話し合いを行うことができます。 ・その他、割り当てられた職務を遂行します。 ■当社の強み・魅力： ◇売上高に左右されずに開発を行える環境：流動比率500％、自己資本比率90％以上という圧倒的な財務基盤を誇ります。それ故、短期的な売上ではなく長期的な観点で開発が可能です。 ◇原子層堆積（ALD）技術：この分野での専門性が他の半導体装置メーカーとの差別化要因となっています。ALD技術は、高精度な薄膜形成を可能にし、微細化が進む最先端の半導体製造プロセスにおいては非常に重要な役割を果たしています。 ◇グローバルな研究開発拠点：オランダ、ベルギー、フィンランド、アメリカ、韓国、日本に研究開発拠点があります。

＜最終学歴＞大学院、大学卒以上

＜勤務地詳細＞広島サービスセンター住所：広島県東広島市西条栄町10-30 東広島SeaPlace 402勤務地最寄駅：JR山陽本線／西条駅受動喫煙対策：屋内全面禁煙

西条駅(広島県)、寺家駅、東広島駅

＜予定年収＞1,500万円～1,600万円＜賃金形態＞月給制＜賃金内訳＞月額（基本給）：1,250,000円～1,330,000円＜月給＞1,250,000円～1,330,000円＜昇給有無＞有＜残業手当＞有＜給与補足＞・インセンティブ：基本年収の20％※ご経験・スキルをもとに年収提示となります。賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。月給(月額)は固定手当を含めた表記です。

■事業内容：ウェハ処理用の半導体プロセス装置の大手サプライヤであるASM International N.V.の日本法人として事業を展開する、精密機器製造企業です。プラズマCVD装置、減圧CVD装置、エピタキシャル製造装置（半導体製造の前工程で使用されるウェハ薄膜形成装置）といった半導体製造装置の製造、販売をコアビジネスとしています。