東京応化工業株式会社

【神奈川/茅ヶ崎】リソグラフィープロセス材料の開発担当◆高分子化合物合成のご経験をお持ちの方へ

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【高分子化合物合成／リソグラフィーの知見・経験をお持ちの方へ／急速に拡大する半導体市場で必要不可欠なフォトレジストで世界トップシェアの素材メーカー／転勤当面無し／福利厚生◎／やりがい◎】

■職務内容：【変更の範囲：会社の定める業務】
同社のTTIC(TOK技術革新センター）リソグラフィープロセス材料研究課にて以下開発業務を担当いただきます。
・顧客要望を受けた新規高分子化合物の設計、合成、特性基礎評価
・大学や協業コンソーシアムとの共同研究への参画
※能力や適正次第では、顧客と直接議論し、顧客要望や潜在的課題を元に素材設計に落とし込みを行う業務などの実施可能性もあります。
※また、会社都合もしくは能力・適正などの都合により上記業務内容以外の仕事をしていただく可能性もあります。

■採用背景：
誘導自己組織化(DSA)技術開発体制の強化のためメンバーを増員します。

■期待しているスキル：
・高分子化合物合成実務経験（リビングアニオン重合、リビングラジカル重合などの制御重合）
・コミュニケーション能力（関係部署との相談、議論が出来ること）
・界面化学、薄膜に関する知識

■同社について
【大手優良化学メーカー／社員定着率・働き方◎】
設立1940年・75年以上の歴史がある大手化学メーカーです。穏やかな社員が多く社員定着率も良く平均勤続年数18.4年です、自己資本比率70％超と安定経営を実現しています。平均年収814万円と高水準で、有給も取得しやすい環境です。
【急速に拡大する半導体市場で必要不可欠なフォトレジストで世界トップクラスのシェア】
今後情報社会が進む中、5Ｇやデータセンター向けの半導体需要が加速しています。長年蓄積してきた「微細加工技術」と「高純度化技術」をもって半導体製造関連の材料および、装置の開発・製造を国内・海外にて展開してきました。その中でもフォトレジストでは世界トップシェアを築いています。

変更の範囲：本文参照

＜最終学歴＞大学院、大学卒以上

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＜応募資格/応募条件＞
■必須条件：
・高分子化合物合成実務経験（リビングアニオン重合、リビングラジカル重合などの制御重合）
・英語でのコミュニケーションに苦手意識がないこと
■歓迎条件：
・界面化学、薄膜に関する知識をお持ちの方

＜語学補足＞
英語力のレベルは問いませんが、英語でのコミュニケーションに苦手意識がないこと

＜勤務地詳細＞
TTIC(TOK技術革新センター)
住所：神奈川県高座郡寒川町田端1590
勤務地最寄駅：JR東海道線／茅ヶ崎（北口）駅
受動喫煙対策：屋内全面禁煙
変更の範囲：本文参照

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＜勤務地補足＞
【変更の範囲：会社の定める事業所（海外含む）※一般職は本人の同意のもとに勤務地を変更】

＜転勤＞
当面なし

＜オンライン面接＞
可

＜労働時間区分＞
フレックスタイム制
コアタイム：10:00～15:00
休憩時間：60分
時間外労働有無：有

＜標準的な勤務時間帯＞
8:30～17:15

正社員

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＜雇用形態補足＞
期間の定め：無
補足事項なし

＜試用期間＞
3ヶ月
※試用期間中、フレックスタイム適応外(通常の8:30 ～17:15 の勤務時間となります）

通勤手当、家族手当、住宅手当、健康保険、厚生年金保険、雇用保険、労災保険、厚生年金基金、退職金制度

＜各手当・制度補足＞
通勤手当：実費支給
家族手当：会社規定による
住宅手当：会社規定による
社会保険：各種社会保険完備、健保組合あり
厚生年金基金：補足事項なし
退職金制度：再雇用あり

＜定年＞
60歳

＜育休取得実績＞
有

＜教育制度・資格補助補足＞
OJTとなります。
昇格のタイミングで各種階層別教育を受講いただきます。また資格取得奨励金制度もございます。

＜その他補足＞
社員持株会、住宅援助金制度、育児休職制度ほか

完全週休2日制（休日は土日祝日）
年間有給休暇10日～20日（下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります）
年間休日日数121日

完全週休2日制（土・日）、祝日、年末年始休暇、年次有給休暇（入社半年経過後 10日～最高20日）、慶弔休暇など