東京応化工業株式会社
【神奈川/茅ヶ崎】EUVレジスト開発(合成・重合)プライム上場/半導体材料世界トップクラスメーカー
募集要項
おしごと用語集仕事内容
【有機合成に関する知見・ご経験をお持ちの方へ/半導体業界向け材料で世界トップクラスのシェアを持つグローバル素材メーカー/22年12月決算で過去最高収益更新・平均年収814万円と高水準】
◆職務内容:
EUVレジスト開発に関する以下業務をご担当頂きます。
新規原材料の開発加速、および特性を早期に確認することが重要事項となっております。
配属先は、(1)合成部隊(2)レジスト開発部隊と2つに業務が分かれており、今回は(1)の人員をメインで募集していますが、(2)への配属可能性もあり、ご経験に応じて決定をいたします。
・レジスト特性改善につながる新規素材の設計・合成・スケールアップ
・レジスト用ポリマーの重合
・レジスト開発(フォーミュレーション、顧客対応、レジスト製造)
・顧客、他部署、他部門と議論し顧客要望の実施及び課題解決
・大学・研究機関との連携
■同社について:
設立1940年・75年以上の歴史がある大手化学メーカーです。穏やかな社員が多く社員定着率も良く平均勤続年数18.4年です、自己資本比率70%超と安定経営を実現しています。平均年収814万円と高水準で、有給も取得しやすい環境です。
今後情報社会が進む中、5Gやデータセンター向けの半導体需要が加速しています。長年蓄積してきた「微細加工技術」と「高純度化技術」をもって半導体製造関連の材料および、装置の開発・製造を国内・海外にて展開してきました。その中でもフォトレジストでは世界トップシェアを築いています。
■半導体パッケージについて:
スマートフォンに代表される半導体素子・電子部品が搭載される電子端末製品の高性能化に加え、軽量化/薄型化/小型化への取り組みは、私たちの想像を越えるスピードで進んでいます。この軽量化/薄型化/小型化と省電力、高速通信の実現に極めて重要な役割を果たすのがパッケージ技術です。同社では、最先端のパッケージプロセスをはじめ、各種実装プロセスに最適なフォトレジストを開発、製品化しています。パッケージ用フォトレジストとしては、ウエハレベルCSP用/ SiP用/再配線(RDL)用/TAB用/COF用など、広範な生産技術に対応したフォトレジストを提供しています。
変更の範囲:会社の定める業務
対象となる方
<応募資格/応募条件>
■必須条件:
・化学系の大学・大学院を卒業、化学系企業での研究開発経験
・低分子化合物の合成経験、高分子重合
■歓迎条件:
・半導体材料、電子材料に使用される化学薬品の取扱い経験
・語学力
・量子計算化学、データサイエンスの経験
・各種分析経験
勤務地
TTIC(TOK技術革新センター)
住所:神奈川県高座郡寒川町田端1590
勤務地最寄駅:JR東海道線/茅ヶ崎(北口)駅
受動喫煙対策:屋内全面禁煙
変更の範囲:会社の定める事業所
<転勤>
当面なし
入社後すぐの転勤は無いが将来的に海外勤務の可能性有
<オンライン面接>
可
勤務時間
フレックスタイム制
コアタイム:10:00~15:00
休憩時間:60分
時間外労働有無:有
<標準的な勤務時間帯>
8:30~17:15
<その他就業時間補足>
試用期間(入社後3か月)はフレックス対象外となります
雇用形態
正社員
<雇用形態補足>
期間の定め:無
補足事項なし
<試用期間>
3ヶ月
※試用期間中はフレックス勤務対象外となります。
給与
500万円~650万円
<賃金形態>
月給制
<賃金内訳>
月額(基本給):270,000円~350,000円
<月給>
270,000円~350,000円
<昇給有無>
有
<残業手当>
有
<給与補足>
※経験・能力に応じ当社規定により優遇します。
賞与:年2回(6月、12月)賞与7.13か月
給与改定:年1回(4月)
諸手当:別途該当項目欄に記載
賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含めた表記です。
待遇・福利厚生
<各手当・制度補足>
通勤手当:実費支給
家族手当:会社規定による
住宅手当:会社規定による
寮社宅:寮あり 通勤2時間以上、35歳以下
社会保険:各種社会保険完備、健保組合あり
厚生年金基金:補足事項なし
退職金制度:補足事項なし
<定年>
60歳
再雇用あり
<育休取得実績>
有(育休後復帰率100%)
<教育制度・資格補助補足>
OJTとなります。
昇格のタイミングで各種階層別教育を受講いただきます。また資格取得奨励金制度もございます。
<その他補足>
社員持株会、住宅援助金制度、育児休職制度ほか
休日・休暇
年間有給休暇10日~20日(下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります)
年間休日日数121日
完全週休2日制(土・日)、祝日、年末年始休暇、年次有給休暇、慶弔休暇など
会社概要
- 事業概要
~様々な事業分野で産業界を支える微細加工技術のリーディングカンパニー※世界でもトップクラスのシェア~
■概要:「フォトリソグラフィ」をコアテクノロジーとして最先端の微細加工技術を開拓しており、1940年にファインケミカルメーカーとして設立してから、1972年に国産初の半導体用ポジ型フォトレジストの開発に成功するなど、世界でもトップクラスのシェアを誇る、業界のリーディングカンパニーです。- 所在地
〒211-0012
神奈川県川崎市中原区中丸子150- 設立
- 1940年10月
- 従業員数
- 2,052名
- 上場市場名
- プライム市場
- 資本金
- 14,640百万円
- 売上高
162,270百万円
- 経常利益
- 22,706百万円
- 平均年齢
- 43歳
応募方法
応募方法
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【拠点名】シンガポール:PERSOLKELLY Singapore Pte Ltd
香港:PERSOLKELLY Hong Kong Limited
韓国:PERSOLKELLY Korea, Ltd.
台湾:台灣英創管理顧問分有限公司
ベトナム:PERSOLKELLY Vietnam Company Limited
中国:英創人材服務(上海)有限公司、英創人力資源服務(深セン)有限公司
マレーシア:Agensi Pekerjaan PERSOLKELLY Malaysia Sdn. Bhd.
フィリピン:John Clements. Recruitemt,Inc.
タイ:PERSOLKELLY HR Services Recruitment (Thailand) Co., Ltd.
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