東京応化工業株式会社
【神奈川/茅ヶ崎】リソグラフィープロセス材料の開発担当◆高分子化合物合成のご経験をお持ちの方へ
募集要項
おしごと用語集仕事内容
【高分子化合物合成/リソグラフィーの知見・経験をお持ちの方へ/急速に拡大する半導体市場で必要不可欠なフォトレジストで世界トップシェアの素材メーカー/転勤当面無し/福利厚生◎/やりがい◎】
■職務内容:【変更の範囲:会社の定める業務】
同社のTTIC(TOK技術革新センター)リソグラフィープロセス材料研究課にて以下開発業務を担当いただきます。
・顧客要望を受けた新規高分子化合物の設計、合成、特性基礎評価
・大学や協業コンソーシアムとの共同研究への参画
※能力や適正次第では、顧客と直接議論し、顧客要望や潜在的課題を元に素材設計に落とし込みを行う業務などの実施可能性もあります。
※また、会社都合もしくは能力・適正などの都合により上記業務内容以外の仕事をしていただく可能性もあります。
■採用背景:
誘導自己組織化(DSA)技術開発体制の強化のためメンバーを増員します。
■期待しているスキル:
・高分子化合物合成実務経験(リビングアニオン重合、リビングラジカル重合などの制御重合)
・コミュニケーション能力(関係部署との相談、議論が出来ること)
・界面化学、薄膜に関する知識
■同社について
【大手優良化学メーカー/社員定着率・働き方◎】
設立1940年・75年以上の歴史がある大手化学メーカーです。穏やかな社員が多く社員定着率も良く平均勤続年数18.4年です、自己資本比率70%超と安定経営を実現しています。平均年収814万円と高水準で、有給も取得しやすい環境です。
【急速に拡大する半導体市場で必要不可欠なフォトレジストで世界トップクラスのシェア】
今後情報社会が進む中、5Gやデータセンター向けの半導体需要が加速しています。長年蓄積してきた「微細加工技術」と「高純度化技術」をもって半導体製造関連の材料および、装置の開発・製造を国内・海外にて展開してきました。その中でもフォトレジストでは世界トップシェアを築いています。
変更の範囲:本文参照
対象となる方
<応募資格/応募条件>
■必須条件:
・高分子化合物合成実務経験(リビングアニオン重合、リビングラジカル重合などの制御重合)
・英語でのコミュニケーションに苦手意識がないこと
■歓迎条件:
・界面化学、薄膜に関する知識をお持ちの方
<語学補足>
英語力のレベルは問いませんが、英語でのコミュニケーションに苦手意識がないこと
勤務地
TTIC(TOK技術革新センター)
住所:神奈川県高座郡寒川町田端1590
勤務地最寄駅:JR東海道線/茅ヶ崎(北口)駅
受動喫煙対策:屋内全面禁煙
変更の範囲:本文参照
<勤務地補足>
【変更の範囲:会社の定める事業所(海外含む)※一般職は本人の同意のもとに勤務地を変更】
<転勤>
当面なし
<オンライン面接>
可
勤務時間
フレックスタイム制
コアタイム:10:00~15:00
休憩時間:60分
時間外労働有無:有
<標準的な勤務時間帯>
8:30~17:15
雇用形態
正社員
<雇用形態補足>
期間の定め:無
補足事項なし
<試用期間>
3ヶ月
※試用期間中、フレックスタイム適応外(通常の8:30 ~17:15 の勤務時間となります)
給与
550万円~600万円
<賃金形態>
月給制
<賃金内訳>
月額(基本給):280,000円~313,180円
<月給>
280,000円~313,180円
<昇給有無>
有
<残業手当>
有
<給与補足>
■賞与実績:年2回(計7.13ヶ月分、前年度実績)
賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含めた表記です。
待遇・福利厚生
<各手当・制度補足>
通勤手当:実費支給
家族手当:会社規定による
住宅手当:会社規定による
社会保険:各種社会保険完備、健保組合あり
厚生年金基金:補足事項なし
退職金制度:再雇用あり
<定年>
60歳
<育休取得実績>
有
<教育制度・資格補助補足>
OJTとなります。
昇格のタイミングで各種階層別教育を受講いただきます。また資格取得奨励金制度もございます。
<その他補足>
社員持株会、住宅援助金制度、育児休職制度ほか
休日・休暇
年間有給休暇10日~20日(下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります)
年間休日日数121日
完全週休2日制(土・日)、祝日、年末年始休暇、年次有給休暇(入社半年経過後 10日~最高20日)、慶弔休暇など
会社概要
- 事業概要
■概要:「フォトリソグラフィ」をコアテクノロジーとして最先端の微細加工技術を開拓しており、1940年にファインケミカルメーカーとして設立してから、1972年に国産初の半導体用ポジ型フォトレジストの開発に成功するなど、世界でもトップクラスのシェアを誇る、業界のリーディングカンパニーです。
■事業内容:
・半導体・液晶ディスプレイ等のフォトリソグラフィプロセスで用いられる感光性樹脂(フォトレジスト)・高純度化学薬品を中心とした製造
材料、その他無機・有機化学薬品等の製造・販売※主要商品:フォトレジスト、高機能化学薬品- 所在地
〒211-0012
神奈川県川崎市中原区中丸子150- 設立
- 1940年10月
- 従業員数
- 2,052名
- 上場市場名
- プライム市場
- 資本金
- 14,640百万円
- 売上高
162,270百万円
- 経常利益
- 22,706百万円
- 平均年齢
- 43歳
応募方法
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【拠点名】シンガポール:PERSOLKELLY Singapore Pte Ltd
香港:PERSOLKELLY Hong Kong Limited
韓国:PERSOLKELLY Korea, Ltd.
台湾:台灣英創管理顧問分有限公司
ベトナム:PERSOLKELLY Vietnam Company Limited
中国:英創人材服務(上海)有限公司、英創人力資源服務(深セン)有限公司
マレーシア:Agensi Pekerjaan PERSOLKELLY Malaysia Sdn. Bhd.
フィリピン:John Clements. Recruitemt,Inc.
タイ:PERSOLKELLY HR Services Recruitment (Thailand) Co., Ltd.
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