東京応化工業株式会社
【神奈川/寒川】半導体材料の原料開発(半導体製造における最先端分野・EUVレジスト)◇プライム上場
募集要項
おしごと用語集仕事内容
【低分子合成や高分子重合の経験活かす/5GデバイスやAIに搭載される半導体製造に使う微細加工/独身寮や住宅補助など充実した福利厚生】
■職務内容:
半導体製造に使うレジスト材料(EUV向け)の開発をお任せします。
今回は、材料開発ポジションにて素材の合成をお任せする予定ですが、ご経験次第では、製品開発ポジションに配属になる可能性があります。
<具体的な業務内容>
【材料開発】
・レジスト特性改善につながる新規素材の設計・合成・スケールアップ
・レジスト用ポリマーの重合
・大学・研究機関との連携
【製品開発】
・レジスト開発
(原料の選択・配合設計、顧客対応、レジスト製造など)
・顧客や、他部署、他部門と議論し、顧客要望の実施、および課題解決
<EUVレジストについて>
・当社のコア技術であるフォトリソグラフィは、「光線」がレンズを通過してフォトレジストに化学変化を起こすことで「半導体回路のパターン」を形成します。この光線にはこれまで、ICチップに超微細な線幅を描くことができる短波長の光源が使用されてきましたが、技術革新が進む一方で「微細加工の限界」が懸念されるようになり、その中で新たに創出されたのがEUV(極端紫外線)を光源に使用する技術です。
・EUV露光による半導体(7nm)の一部は、既に5G対応デバイスに使用されていますが、AIなどコンピュータ関連技術のさらなる発達には半導体の微細加工化が欠かせません。EUVレジストは、半導体の微細加工の中でも最先端の技術に関わる材料になります。
■配属部署:
先端材料開発一部
■福利厚生:
・独身寮あり(※入居規定あり)
・住宅補助あり(※支給規定あり)
・社員食堂あり(利用費は一部会社補助あり)
・平均勤続年数:17.5年(2023年度)
・離職率:1.6%(2023年度)
■当社について:
当社は、1936年、高純度化学薬品を開発・製造する化学薬品メーカーとして設立しました。1960年代後半から、半導体製造工程で重要な役割を担うフォトレジストなどの微細加工用材料を提供する化学薬品メーカーとして、国内外の半導体・エレクトロニクス産業とともに成長してきました。
変更の範囲:会社の定める業務
対象となる方
<応募資格/応募条件>
■必須条件:
・化学系の大学・大学院を卒業、化学系企業での研究開発経験
・低分子化合物の合成経験、高分子重合
■歓迎条件:
・半導体材料、電子材料に使用される化学薬品の取扱い経験
・語学力
・量子計算化学、データサイエンスの経験
・各種分析経験
勤務地
TTIC(TOK技術革新センター)
住所:神奈川県高座郡寒川町田端1590
勤務地最寄駅:JR東海道線/茅ヶ崎(北口)駅
受動喫煙対策:屋内全面禁煙
変更の範囲:会社の定める事業所
<転勤>
当面なし
入社後すぐの転勤は無いが将来的に海外勤務の可能性有
<オンライン面接>
可
勤務時間
フレックスタイム制
コアタイム:10:00~15:00
休憩時間:60分
時間外労働有無:有
<標準的な勤務時間帯>
8:30~17:15
<その他就業時間補足>
試用期間(入社後3か月)はフレックス対象外となります
雇用形態
正社員
<雇用形態補足>
期間の定め:無
補足事項なし
<試用期間>
3ヶ月
※試用期間中はフレックス勤務対象外となります。
給与
500万円~650万円
<賃金形態>
月給制
<賃金内訳>
月額(基本給):270,000円~350,000円
<月給>
270,000円~350,000円
<昇給有無>
有
<残業手当>
有
<給与補足>
※経験・能力に応じ当社規定により優遇します。
賞与:年2回(6月、12月)賞与7.13か月
給与改定:年1回(4月)
諸手当:別途該当項目欄に記載
賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含めた表記です。
待遇・福利厚生
<各手当・制度補足>
通勤手当:実費支給
家族手当:会社規定による
住宅手当:会社規定による
寮社宅:寮あり 通勤2時間以上、35歳以下
社会保険:各種社会保険完備、健保組合あり
厚生年金基金:補足事項なし
退職金制度:補足事項なし
<定年>
65歳
<育休取得実績>
有(育休後復帰率100%)
<教育制度・資格補助補足>
OJTとなります。
昇格のタイミングで各種階層別教育を受講いただきます。また資格取得奨励金制度もございます。
<その他補足>
社員持株会、住宅援助金制度、育児休職制度ほか
休日・休暇
年間有給休暇10日~20日(下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります)
年間休日日数123日
完全週休2日制(土・日)、祝日、年末年始休暇、年次有給休暇、慶弔休暇など
会社概要
- 事業概要
~様々な事業分野で産業界を支える微細加工技術のリーディングカンパニー※世界でもトップクラスのシェア~
■概要:「フォトリソグラフィ」をコアテクノロジーとして最先端の微細加工技術を開拓しており、1940年にファインケミカルメーカーとして設立してから、1972年に国産初の半導体用ポジ型フォトレジストの開発に成功するなど、世界でもトップクラスのシェアを誇る、業界のリーディングカンパニーです。- 所在地
〒211-0012
神奈川県川崎市中原区中丸子150- 設立
- 1940年10月
- 従業員数
- 1,996名
- 上場市場名
- プライム市場
- 資本金
- 14,640百万円
- 売上高
200,966百万円
- 経常利益
- 33,090百万円
- 平均年齢
- 43歳
応募方法
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【拠点名】シンガポール:PERSOLKELLY Singapore Pte Ltd
香港:PERSOLKELLY Hong Kong Limited
韓国:PERSOLKELLY Korea, Ltd.
台湾:台灣英創管理顧問分有限公司
ベトナム:PERSOLKELLY Vietnam Company Limited
中国:英創人材服務(上海)有限公司、英創人力資源服務(深セン)有限公司
マレーシア:Agensi Pekerjaan PERSOLKELLY Malaysia Sdn. Bhd.
フィリピン:John Clements. Recruitemt,Inc.
タイ:PERSOLKELLY HR Services Recruitment (Thailand) Co., Ltd.
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