東京応化工業株式会社
【神奈川/寒川町】半導体用フォトレジストの研究開発◆プライム上場◆自己資本比率70%超の安定経営◆
募集要項
おしごと用語集仕事内容
【平均残業時間月16.4時間/平均勤続年数17.1年/85年以上の歴史がある大手化学メーカー】
■業務内容
ご入社後は先端材料開発二部 半導体レジスト一課に配属となります。
顧客向けArFレジスト開発をご担当いただきます。
■業務詳細
・レジストフォーミュレーション
・サンプル製造
・評価
・結果解析
・顧客要求に合わせた改良、最適化検討 等
■人員構成
・人数:19名(男性16名・女性3名)
・年齢:20~50代
■仕事の魅力
85年以上の歴史がある大手化学メーカー。
穏やかな社員が多く社員定着率も良く平均勤続年数17.1年です。
自己資本比率70%超と安定経営を実現。
平均年収865万円と高水準で、有給も取得しやすい環境です。
■当社について
半導体デバイスの製造工程では、フォトリソグラフィという技術を用いてシリコンウエハ上に微細な溝を刻み、そこに回路を形成します。
私ども東京応化工業はこの工程で使用する様々なフォトレジストの開発・製造・販売を事業の柱として成長してきた企業です。
<事業内容>
半導体・液晶ディスプレイ等のフォトリソグラフィプロセスで用いられる感光性樹脂(フォトレジスト)・高純度化学薬品を中心とした製造材料、その他無機、有機化学薬品等の製造、販売
材料(フォトレジスト等)と装置(半導体用・ディスプレイ用製造装置等)の2つの事業を柱とし、国内外に18の拠点を構えグローバルに展開、特に、半導体等の微細加工には欠かせないフォトレジストの分野では世界トップクラスのシェアを誇っています。
<当社の価値>
フォトレジストの性能を高めると、より微細な溝をウエハに刻むことができ、当社は製品開発を通じて、半導体の集積度向上の歴史に貢献してきました。そして、今後の将来においても更に新規価値を世の中へ発信し続けていくことが使命と思っています。
変更の範囲:会社の定める業務
対象となる方
<応募資格/応募条件>
■必須条件:
◎大卒以上であること
◎化学の基礎知識を有すること
◎開発業務に必要な以下のうちいずれか1つ以上の経験を有すること
・化学系の開発業務
・半導体のプロセス構築もしくは管理経験
・顧客との技術MTG経験
・DX等を活用したデータ解析経験
勤務地
TOK技術革新センター(相模事業所)
住所:神奈川県高座郡寒川町田端1590
勤務地最寄駅:JR東海道線/茅ヶ崎(北口)駅
受動喫煙対策:屋内全面禁煙
変更の範囲:会社の定める事業所
<転勤>
当面なし
※海外への転勤の可能性がございます
勤務時間
フレックスタイム制
コアタイム:10:00~15:00
フレキシブルタイム:6:00~10:00、15:00~22:00
休憩時間:60分
時間外労働有無:有
<標準的な勤務時間帯>
8:30~17:15
<その他就業時間補足>
■平均残業時間:16.4時間/月※残業が月30時間以上となる可能性がございます
雇用形態
正社員
<雇用形態補足>
期間の定め:無
<試用期間>
3ヶ月
※試用期間中、フレックスタイム適用外(通常の8:30~17:15の勤務時間となります)
給与
570万円~770万円
<賃金形態>
月給制
<賃金内訳>
月額(基本給):320,000円~380,000円
<月給>
320,000円~380,000円
<昇給有無>
有
<残業手当>
有
<給与補足>
※ご経験により決定
■賞与:年2回(計6カ月分見込)
賃金はあくまでも目安の金額であり、選考を通じて上下する可能性があります。
月給(月額)は固定手当を含めた表記です。
待遇・福利厚生
<社会保険>
健康保険 有、厚生年金 有、雇用保険 有、労災保険 有
各種社会保険完備、健保組合あり
<各手当・制度補足>
通勤手当:実費支給
家族手当:会社規定による
住宅手当:会社規定による
寮社宅:独身寮(入寮条件あり)
厚生年金基金:無
退職金制度:補足事項なし
<定年>
65歳
<育休取得実績>
有(育休後復帰率100%)
<教育制度・資格補助補足>
一例:OJT研修、昇格時の階層別教育、資格取得奨励金制度、自己学習eラーニングコンテンツ
<その他補足>
■健康保険組合
■企業年金基金
■社員持株会
■財形貯蓄
■住宅援助金制度
■各種クラブ活動
■食費補助
■旅行補助金 他
休日・休暇
年間有給休暇15日~20日(下限日数は、入社半年経過後の付与日数となります)
年間休日日数123日
■有給休暇:入社半年経過時点15日 最高付与日数20日
■その他:年に2回程度、祝日週に土曜日出勤有
会社概要
- 事業概要
~様々な事業分野で産業界を支える微細加工技術のリーディングカンパニー※世界でもトップクラスのシェア~
■概要:「フォトリソグラフィ」をコアテクノロジーとして最先端の微細加工技術を開拓しており、1940年にファインケミカルメーカーとして設立してから、1972年に国産初の半導体用ポジ型フォトレジストの開発に成功するなど、世界でもトップクラスのシェアを誇る、業界のリーディングカンパニーです。
■事業内容:
・半導体・液晶ディスプレイ等のフォトリソグラフィプロセスで用いられる感光性樹脂(フォトレジスト)・高純度化学薬品を中心とした製造
材料、その他無機・有機化学薬品等の製造・販売※主要商品:フォトレジスト、高機能化学薬品
■詳細:
1936年、医薬品の製造などに欠かせない化学品・水酸化カリウムの製造からスタート。1962年にはプリント基板用フォトレジスト(感光性有機樹脂)の製造を開始。以来、フォトリソグラフィ技術をコアテクノロジーとして、常に最先端の微細加工技術を切り拓き、豊富な技術資源を蓄積してきました。これは、ICやLSIなどの半導体、液晶ディスプレイや半導体パッケージなどの分野で利用されるほか、テレビ、携帯電話、スマートフォン、パソコン、カメラなどのディスプレイ製造分野、自動車部品、電子部品などの分野、太陽電池製造分野でも応用されています。TOKは、専門化学メーカーとして、高付加価値製品の微細加工技術に挑戦。日々の「ものづくり」によって、調和のとれた豊かな未来の創造に貢献しています。- 所在地
〒211-0012
神奈川県川崎市中原区中丸子150- 設立
- 1940年10月
- 従業員数
- 1,996名
- 上場市場名
- プライム市場
- 資本金
- 14,640百万円
- 売上高
200,966百万円
- 経常利益
- 33,090百万円
- 平均年齢
- 43歳
応募方法
応募方法
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